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高純氨應用原理是什么？

【1】? Ga(CH₃)₃+ NH₃?→ GaN + 4CH₄；

這個反應是制造發(fā)光二極管（LED）外延芯片的氮化鎵的基 礎，反應在昂貴的 MOCVD （有機金屬氣相沉積）設備上完成。山東青島。

【2】? 3SiH₄?+ 4NH₃→ Si₃N₄?+ 12H₂；

這個反應是制造氮化硅（Si₃N₄?）的基礎，由硅烷（SiH₄?）和高純氨在較高溫度下，在化學氣相沉積（CVD）設備中進行反應，此反應也需要相當數(shù)量的高純氨氣。山東青島。

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